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蘇州清芯卓半導(dǎo)體設(shè)備有限公司
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刻蝕設(shè)備
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CDS工業(yè)系統(tǒng)
經(jīng)營模式:生產(chǎn)廠家
商鋪產(chǎn)品:10條
所在地區(qū):江蘇蘇州市
聯(lián)系人:楊麗華 (銷售)
詳細(xì)摘要: 線性布局,自動(dòng)傳片,自動(dòng)完成去膠工藝。 晶圓尺寸根據(jù)用戶需求。 腔體共有三層,每層都有單獨(dú)的藥液排放 循環(huán)功能。 清洗多種金屬顆粒和有機(jī)物殘留。 藥液在循環(huán)中,...
詳細(xì)摘要: 刻蝕工藝是選擇性地從晶圓表面去除不需要的材料以達(dá)到集成電路芯片制造要求的工藝過程。 刻蝕工藝可以分為圖案刻蝕(pattern)與 無圖案刻蝕(blanket)兩...
詳細(xì)摘要: 通風(fēng)柜是實(shí)驗(yàn)室操作臺(tái)的一種。在實(shí)驗(yàn)室中起到排風(fēng)和換氣的功效。通風(fēng)柜的結(jié)構(gòu)是上下式,其頂部有排氣孔,可安裝風(fēng)機(jī)。上柜中有導(dǎo)流板,電路控制觸摸開關(guān),電源插座等 ,透...
詳細(xì)摘要: 供液系統(tǒng)(CDS)是濕法清洗設(shè)備中的一種自動(dòng)化液體供應(yīng)系統(tǒng),通過供液泵、管道系統(tǒng)、閥門和控制系統(tǒng)等組成,將液體供應(yīng)到各個(gè)終端設(shè)備,提高了供液的精度和安全性,廣泛...
詳細(xì)摘要: 設(shè)備應(yīng)用濕法制程有機(jī)溶劑清洗,觸控人機(jī)或PC界面搭配PLC的軟件控制,由機(jī)械手臂180度 旋轉(zhuǎn)設(shè)計(jì)執(zhí)行槽位間的晶圓輸送,依制程需求或場(chǎng)地需求,配置多款制程槽位模...
詳細(xì)摘要: 兆聲波清洗不僅保存了超聲波清洗的優(yōu)點(diǎn),而且克服了它的不足。在清洗時(shí),由換能器發(fā)出波長為1μm頻率為0.8兆赫的高能聲波。溶液分子在這種聲波的推動(dòng)下作加速運(yùn)動(dòng),瞬...
詳細(xì)摘要: 超聲波清洗設(shè)備是利用超聲波在液體中的社會(huì)化作用、加速度作用及直進(jìn)流作用對(duì)液體和污物直接、超聲波清洗間接的作用,使污物層被分散、乳化、剝離而達(dá)到清洗目的。 超聲波...
詳細(xì)摘要: RCA槽式清洗機(jī) 是一種主要用于去除硅片表面各類玷污,是半導(dǎo)體制造過程中被廣泛應(yīng)用的工藝。 主要由兩只 石英加熱缸 、兩套溫度控制系統(tǒng)(石英缸數(shù)量可根據(jù)客戶要求...
詳細(xì)摘要: 腐蝕清洗機(jī)是晶圓蝕刻清潔系統(tǒng),滿足晶片、光掩模和基板蝕刻清洗特定工藝需求。
詳細(xì)摘要: 以純水、酸性藥液或有機(jī)試劑作為清洗劑,采用噴淋、熱浸等清洗方式,對(duì)晶圓進(jìn)行批量清洗。
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主營產(chǎn)品:晶圓清洗機(jī),芯片清洗機(jī),去膠設(shè)備,刻蝕設(shè)備,顯影設(shè)備
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