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蘇州清芯卓半導(dǎo)體設(shè)備有限公司
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金屬剝離清洗機(jī)
蝕刻設(shè)備
刻蝕設(shè)備
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晶圓清洗設(shè)備
CDS工業(yè)系統(tǒng)
經(jīng)營模式:生產(chǎn)廠家
商鋪產(chǎn)品:10條
所在地區(qū):江蘇蘇州市
聯(lián)系人:楊麗華 (銷售)
詳細(xì)摘要: 濕法EKC清洗機(jī)是半導(dǎo)體清洗設(shè)備之一。它基于化學(xué)與機(jī)械作用結(jié)合的原理,利用含氧化劑和酸性物質(zhì)的溶液清洗晶圓表面,溶解雜質(zhì)。液體沖刷與超聲波裝置增強(qiáng)效果。具備高效...
詳細(xì)摘要: SWC-4000兆聲晶圓(掩模版)清洗機(jī)概述:兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展,對MEMS和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平,可以幫助用戶獲得干凈的晶圓片和掩模版...
詳細(xì)摘要: SWC-3000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)概述:兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展,對MEMS和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平,可以幫助用戶獲得z干凈的晶圓片和掩模版...
詳細(xì)摘要: SWC-5000全自動兆聲晶圓清洗機(jī):兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展,對MEMS和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平,可以幫助用戶獲得干凈的晶圓片和掩模版。NAN...
詳細(xì)摘要: LSC-4000兆聲大基片濕法去膠清洗系統(tǒng)概述:兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展,對MEMS和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平,可以幫助用戶獲得z干凈的晶圓片和掩...
詳細(xì)摘要: LSC-5000全自動兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)概述:兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展,對MEMS和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平,可以幫助用戶獲得z干凈的晶圓片和...
詳細(xì)摘要: NIE-3500(A)全自動離子束清洗系統(tǒng)產(chǎn)品概述:該系統(tǒng)為全自動上下載片,并且通過計算機(jī)全自動實現(xiàn)工藝控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng),系統(tǒng)具有結(jié)構(gòu)緊湊...
詳細(xì)摘要: NIE-3000離子束清洗系統(tǒng)產(chǎn)品概述:該系統(tǒng)為手動放片取片,但通過計算機(jī)全自動實現(xiàn)工藝控制的臺式離子束刻蝕系統(tǒng),系統(tǒng)具有結(jié)構(gòu)緊湊、功能強(qiáng)大、自動化程度高、模塊...
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