產(chǎn)品簡介 INF450-LP-WM激光平面數(shù)字干涉儀產(chǎn)品型號:INF450-LP-WM成像質(zhì)量良好,結(jié)構(gòu)簡潔臥式結(jié)構(gòu),雙端口測量操作方便,使用簡單波長調(diào)諧相移解相分析系統(tǒng)
詳細介紹 用途 技術(shù)參數(shù) 1、雙端口檢測;2、大口徑元件面形檢測;3、測量光學元件的材料均勻性;4、平行平板元件多表面測試;5、元件面形分析,光學數(shù)據(jù)處理。 序號指標名稱指標參數(shù)1測試結(jié)構(gòu)臥式雙端口;2測試口徑大端口:有效口徑≥φ450mm;小端口:有效口徑≥φ100mm;3相移方式QPS波長調(diào)諧相移或機械相移解相;4測試光源波長調(diào)諧相干光源,λ=632.8nm,相干長度≥100m;可選氦氖相干光源,λ=632.8nm(用于機械相移)5CCD指標可選分辨率≥1.2K×1.2K,或分辨率≥2.3K×2.3K,或分辨率≥3.4K×3.4K;6φ800mm標準楔形鏡(TF鏡)標準面面形:PVr優(yōu)于λ/20,中頻誤差PSD1小于0.9nm,進口熔石英材料;7φ800mm標準反射鏡(RF鏡)標準反射面面形:PVr優(yōu)于λ/20,中頻誤差PSD1小于0.9nm,進口微晶材料;8系統(tǒng)傳遞函數(shù)ITF ≥ 0.7 @ 0.4 mm-1(φ450mm大端口系統(tǒng));9系統(tǒng)精度系統(tǒng)精度:系統(tǒng)空腔精度PVr優(yōu)于λ/15,中頻誤差PSD1小于0.9nm(φ800mm有效口徑內(nèi));10系統(tǒng)重復性精度系統(tǒng)重復性精度:系統(tǒng)RMS重復性優(yōu)于λ/2000(2σ);11調(diào)焦范圍調(diào)焦范圍:光瞳調(diào)焦范圍≥±2m;12ZOOM變焦1-6X光學變焦(1.2K)或1X光學變焦,50X數(shù)字變焦(2.3K/3.4K);13測試對準方式與角度測試對準方式與角度:快對準與精密對準方式,對準角度≥±15°/±3°;14波長調(diào)諧相移分析軟件輸出峰谷值(PV)、標準偏差(RMS)、等高圖、X-Y剖面圖、三維立體圖、干涉條紋圖、MTF(光學傳遞函數(shù))、PSF(點擴散函數(shù)),澤爾尼科多項式分析、賽德爾相差分析等;分析軟件可進行矩形、橢圓、正方形、圓、多邊形等數(shù)據(jù)分析功能;平行平板類元件測試功能(樣品無需特殊處理),一次干涉條紋數(shù)據(jù)采集可同時得到,平行平板前表面面形、后表面面形,光學厚度變化;具有材料均勻性測試分析功能;15標準反射鏡支撐調(diào)節(jié)二維手動與電控角度調(diào)節(jié),整體結(jié)構(gòu)氣浮大范圍移動;16測試工裝兩維角度調(diào)節(jié),一維平移調(diào)節(jié),大范圍氣浮調(diào)節(jié);17氣浮隔振平臺隔振平臺,尺寸≤3800mm×1500mm
其他推薦產(chǎn)品 更多 面議 INF25-LP蓋板干涉儀 成都太科光電技術(shù)有限責任公司 面議 INF60-LP激光平面干涉儀 成都太科光電技術(shù)有限責任公司 面議 INF150-LP激光平面干涉儀 成都太科光電技術(shù)有限責任公司 面議 INF450-LP-WM激光平面數(shù)字干涉儀 成都太科光電技術(shù)有限責任公司 面議 INF150V-LP激光數(shù)字平面干涉儀 成都太科光電技術(shù)有限責任公司